杨国强 研究员
杨国强，1963年11月出生。1985年毕业于北京大学化学系，获理学学士学位；1988年毕业于中国科学院感光化学所，获得理学硕士学位；1991年毕业于中科院感光化学所，获得理学博士学位；1992年至1993年在京都大学博士后、日本学术振兴会（JSPS）任博士后研究员；1996年至1999年在美国依利诺伊大学（UIUC）化学系任博士后/研究助理；1995年、2001年和2003年在法国阿尔萨斯大学（Ecole Nationale Superieure de Chimie de Mulhouse, Universite de Haute-Alsace）任高级访问学者。
曾任中国科学院感光化学研究所副研究员、光化学开放实验室副主任；中国科学院化学研究所光化学重点实验室主任、分子反应动力学实验室主任、科技处长、所长助理、副所长；中国化学会秘书长。
现任中国科学院大学副校长、化学研究所二级研究员、化学所和分子科学中心学委会委员；中国科学技术协会第九届全国委员会委员，中国化学会第一届监事会监事、光化学专业委员会副主任；国际光化学系列会议国际组委会委员，亚洲大洋州光化学理事会副理事长；J. Photochem. Photobiol. A:Chem. 助理主编，J. Photochem. Photobiol. C 编委、《影像科学与光化学》、《化学通报》、《高压物理学报》编委。在光功能化合物和功能材料的分子设计、材料合成、性能及其作用机理方面开展研究工作，包括分子结构对发光性质和非线性光学性质的影响、光化学荧光探针（包括用于生物体系的荧光探针）、环境条件（包括超高压条件）对材料性质和电子结构的影响及其作用机理、超高精细光刻胶和气凝胶材料等。在我国首先开展了极端高压条件下光功能材料的性质研究；发现并证明了三芳基硼化合物的双激发态荧光发射性能，提出了利用三芳基硼化合物作为新型多功能荧光探针的作用机理和应用开发；在我国首先开展了基于分子玻璃超高分辨光刻胶的研究，研发出了用于极紫外（EUV）和ArF光刻(193nm)的超高分辨光刻胶，正在进一步开展工业化工艺研发；开发了气凝胶的新型制备工艺和应用。在包括Angew. Chem. Int. Ed.、JACS、Nature Comm., ChemComm、Ana.Chem、等学术刊物上发表研究论文240余篇；获得授权发明专利23项（包括日本专利一项和美国专利两项），另有申请专利20项。